เทคโนโลยีลดการสั่นไหวของแสง
เนื่องจากการทำให้สวยงามและการปกป้องพื้นผิวเคลือบจำเป็นต้องได้รับการปกป้อง โดยเฉพาะจากสารที่เป็นอันตรายในสิ่งแวดล้อม เช่น ความร้อน ออกซิเจน น้ำ และแสง แม้ว่าโพลิเมอร์ส่วนใหญ่จะไม่ดูดซับรังสี UV โดยตรง แต่สารเคลือบทั้งหมดมีสารดูดซับรังสียูวีมากหรือน้อยที่ก่อให้เกิดปฏิกิริยาเปอร์ออกซิเดชันของเรซิน แสงอัลตราไวโอเลต (จากดวงอาทิตย์) สามารถทำให้สีมีประสิทธิภาพน้อยลง แสงประดิษฐ์สามารถให้ผลเช่นเดียวกัน รังสียูวีที่เป็นอันตรายสามารถทำลายพันธะเคมีในโพลิเมอร์ได้ สิ่งนี้ทำให้เรซินเสื่อมสภาพซึ่งนำไปสู่การเปลี่ยนแปลงของสี เช่น การหมอง การชอล์ค การเปลี่ยนสี การเหลือง สะเก็ด การสูญเสียคุณสมบัติทางกายภาพและการป้องกัน กระบวนการทางเคมีนี้เรียกว่าโฟโตออกซิเดชัน กระบวนการโฟโตออกซิเดชัน UV-LED โฟโตออกซิเดชันเป็นสองกระบวนการที่สำคัญ ขั้นตอนแรกคือกระบวนการสลายตัวด้วยแสง ซึ่งเป็นกระบวนการที่ซับซ้อนที่เกิดขึ้นในหลายขั้นตอน รวมถึงแสงอัลตราไวโอเลต ซึ่งจะเปิดกุญแจสู่โมเลกุลที่ก่อตัวเป็นอนุมูลอิสระ กระบวนการที่สองคือกระบวนการออกซิเดชัน ซึ่งอนุมูลอิสระที่เกิดขึ้นระหว่างโฟโตไลซิสทำปฏิกิริยากับออกซิเจนเพื่อผลิตอนุมูลซูเปอร์ออกไซด์ มี 5 ขั้นตอนในกระบวนการโฟโตออกซิเดชัน ในคำอธิบายต่อไปนี้ R หมายถึงส่วนหนึ่งของเรซินสีซึ่งออกซิไดซ์เป็นเบนโซฟีโนนได้ง่าย มี 5 ขั้นตอนในกระบวนการโฟโตออกซิเดชัน ในคำอธิบายต่อไปนี้ R หมายถึงส่วนหนึ่งของเรซินสีซึ่งออกซิไดซ์เป็นเบนโซฟีโนนได้ง่าย มี 5 ขั้นตอนในกระบวนการโฟโตออกซิเดชัน ในคำอธิบายต่อไปนี้ R หมายถึงส่วนหนึ่งของเรซินสีซึ่งออกซิไดซ์เป็นเบนโซฟีโนนได้ง่าย
